Enkel voor intern gebruik. Deel dit niet extern.
We kondigen met trots ons nieuwste contract aan: de bouw van een ultramodern onderzoeks- en ontwikkelingscentrum voor UCB in Eigenbrakel, België. Dit baanbrekende project versterkt ons leiderschap in het leveren van complexe, hoogwaardige infrastructuur in de lifescience-sector.
Het project krijgt de naam Arkelia en zal worden uitgevoerd door de joint venture SM BESIX-Cegelec. Het contract werd officieel toegekend op 13 juni 2025, de bouw zal op 1 juli 2025 beginnen en de voltooiing wordt tegen september 2027 verwacht.
Een strategische investering in innovatie
De Arkelia-faciliteit ligt op slechts 25 km van Brussel en zal dienen als een geavanceerd onderzoeks- en ontwikkelingscentrum dat rechtstreeks verbonden is met de bestaande onderzoeks- en productiegebouwen van UCB. De nieuwe structuur zal ongeveer 10.000 m² beslaan, verspreid over meerdere verdiepingen, en onderdak bieden aan laboratoria, kantoren en gezamenlijke werkruimtes die ontworpen zijn om wetenschappelijk toptalent naar België aan te trekken.
Omvang en duurzaamheid
Het project omvat diepfunderingen, structurele betonwerken, geavanceerde MEP-systemen en gevelwerken. BESIX en Cegelec zullen ook de externe omgevingswerken, wegenwerken, afwerking, de inrichting en de volledige inbedrijfstelling verzorgen. De faciliteit streeft naar een BREEAM Outstanding-certificering, waarbij duurzaamheidsmaatregelen zoals verantwoord bouwen, bescherming van biodiversiteit en afvalbeheer in het hele project zijn opgenomen.
"We zijn vereerd dat we onze samenwerking met UCB mogen verderzetten en kunnen bijdragen aan hun visie voor wetenschappelijke uitmuntendheid in België," legt Mark Beyst uit, algemeen directeur BESIX België-Luxemburg. "Dit project bouwt voort op onze succesvolle samenwerking met UCB voor de Genesis-faciliteit, opgeleverd in 2024. Dankzij onze sterke interne technische expertise en de manier waarop wij de uitvoering op locatie aanpakken, zullen wij dit nieuwe en uitdagende project tot een goed einde brengen."